Kri Hall source d'ions eh 1000

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Vue d'ensemble

Shanghai berdong agent des États - Unis Dr. Kaufman a mis en place la société Kaufman kri Hall Ion source eh 1000 pour une utilisation efficace du gaz, une conception à faible coût fournit un courant ionique élevé, particulièrement adapté aux systèmes de vide de taille moyenne. Appartient à la source d'ions sans grille. Généralement appliqué au revêtement assisté par ion, au pré - nettoyage et à la Gravure ionique à faible énergie. Dimensions: diamètre = 5,7 h = 5,5 tension / courant de décharge: 50 - 300V / 10A gaz de fonctionnement: AR, Xe, KR, O2, N2, précurseurs organiques

Détails du produit

American kri Hall Ion source eh 1000 caractéristiques du produit:

BerdongKRISource d'ions HalleH 1000CaractéristiquesPour:

1.Composants anodiques amovibles- Oui.Facile à entretenir;Lors de la maintenance,Minimiser les temps d'arrêt;Anode de secours Plug and play

2.Courant de décharge élevé à faisceau large- Oui.Densité de courant élevée;Taux de gravure uniforme;Haute efficacité de gravure;Revêtement assisté à haute ionisationIADEfficacité

3.Multi - usages- Oui.Applicable àLoad lock /Système de vide ultra - élevé;Installation facile;Pas besoin de refroidissement par eau

4.Conversion plasma efficace et contrôle de puissance stable

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