Machine de Gravure ionique Hakuto 20ibe - J

NégociableMise à jour sur07/20

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Vue d'ensemble

Shanghai berdong Japon original importé Hakuto ion etching machine 20ibe - J adapté à la production de masse à grande échelle, quel que soit le matériau utilisé peut être utilisé pour le traitement. La machine de Gravure ionique Hakuto 20ibe - J configuration utilise la source d'ions Kaufmann kri 20cm des États - Unis, uniformité de la gravure: 5%, taux de gravure si de la plaquette de silicium 20 nm / min, table d'échantillon: refroidissement direct (refroidissement à l'eau), rotation de 0 ~ 90 degrés, de sorte que l'angle RF peut être ajusté arbitrairement, la gravure peut être faite verticalement, Chanfrein et autres formes de traitement selon les besoins.

Détails du produit

Machine de Gravure ionique Hakuto 20ibe - J avantages du produit:

Les principaux avantages de la machine de Gravure ionique Hakuto:

1. Le dispositif de micro - usinage à sec permet une large application de la recherche et du développement et de la production en série dans les domaines des têtes magnétiques à film mince, des composants semi - conducteurs, des capteurs Mr, etc.

Les caractéristiques de la gravure physique, quel que soit le matériau utilisé, peuvent être utilisées pour le traitement, de sorte que divers domaines peuvent être largement utilisés.

3. Configurer pour utiliser la source d'ions américaine Kaufman

4. L'angle RF peut être ajusté à volonté, la gravure peut faire vertical, Chanfrein et autres formes de traitement selon les besoins.

5. Le substrat est directement chargé sur le dispositif de refroidissement direct, il peut donc être gravé dans un environnement à basse température.

6. Configurez le mécanisme de transmission rotatif rotatif, de sorte que le matériau gravé peut obtenir une surface relativement uniforme et lisse.

7. La conception de la plate - forme utilise un processus d'exploitation automatisé, de sorte qu'il peut y avoir une utilisation très conviviale du processus de production.

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