Kri Hall source d'ions eh 400 aux États - Unis

NégociableMise à jour sur07/20

Modèle

Nature du fabricant: producteurs

Catégorie de produit

Lieu d'origine

Consulter en ligne

Vue d'ensemble

Shanghai berdong agent des États - Unis Dr. Kaufman a mis en place la société Kaufman kri Hall Ion source eh 400 conception à faible coût pour fournir un courant ionique élevé, la taille de la source d'ions Hall eh 400 et l'énergie ionique est particulièrement adapté pour les systèmes de vide de petite et moyenne taille, peut contrôler L'énergie ionique inférieure, généralement appliquée au revêtement assisté par ion, pré - nettoyage et Gravure ionique à faible énergie. Dimensions: diamètre = 3,7 h = 3 tension / courant de décharge: 50 - 300ev / 5A gaz de fonctionnement: AR, Xe, KR, O2, N2, précurseurs organiques

Détails du produit

American kri Hall Ion source eh 400 caractéristiques du produit:

BerdongKRISource d'ions HalleH 400Caractéristiques:

1.Composants anodiques amovibles- Oui.Facile à entretenir;Lors de la maintenance,Minimiser les temps d'arrêt;Anode de secours Plug and play

2.Courant de décharge élevé à faisceau large- Oui.Taux de gravure uniforme;Haute efficacité de gravure;Revêtement assisté à haute ionisationIADEfficacité

3.Multi - usages- Oui.Applicable àLoad lock /Système de vide ultra - élevé

4.Conversion plasma efficace et contrôle de puissance stable

Produit similaire Recommander