Four activateur centrotherm activator150

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Four activateur centrotherm activator150

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[profil du produit]

centrothermC.activator 150 ligne de four haute température pour recuit post - implantation ionique de dispositifs en carbure de silicium (sic) ou en Nitrure de gallium (Gan) c.activator 150 est disponible en différentes versions en tant que four de chauffage de R & D et de production en série avec une grande flexibilité de processus.La conception unique de chauffage sans métal de businessfront augmente la température de traitement jusqu'à 2000 ° C et réduit le temps de cycle de traitement. En raison de son faible encombrement et de son faible coût de possession, c.activator 150 favorise une meilleure rentabilité de la production.

· recuit de plaques de Gan et de SiC

· croissance du graphène

[avantages du produit]

· haute efficacité d'activation

· température de processus jusqu'à 2000 ℃ Max stable

· soutenir 2 - 6 pouces Wafer

· 5 - 50 plaquettes peuvent être traitées par lots

· vitesse de montée en température jusqu'à 100k / min

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