Table thermique pour plaquettes de silicium rt400xrd

Plage de température: température ambiante ~ 400 ℃

Plate - forme de chauffage: φ200mm

Angle d'émission Plan: - 40 ° ≤ α ≤ 40 °, angle d'émission vertical des rayons: - 2 ° ≤ β ≤ 70°

Vitesse de montée en température < 5°C / min

Thermométrie primaire: thermocouple, thermométrie infrarouge (auxiliaire)

Précision de l'affichage / du contrôle de la température: 0,1 ℃ / 0,5 ℃

Environnement expérimental: cavité fermée hermétiquement, peut être rempli d'atmosphère

Méthode de refroidissement: refroidissement par circulation d'eau

Contrôle de la température: précision du régulateur de classe 0,2, contrôle PID ai, programme de 50 segments

Logiciel de contrôle de la température: commutateur d'interface chinois - anglais, manipulation en temps réel, correction de température multipoint, vitesse de température réglable, intervalle de température contrôlé, etc., affichage et enregistrement de la courbe de processus

Contrôleur de mouvement: une table thermique axiale se déplace horizontalement, une table thermique axiale tourne, une thermométrie infrarouge axiale se déplace. Manipulation manuelle ou logicielle.