Pulvérisateur magnétron radiofréquence à plasma à cinq cibles de Corinthe

CorinthePulvérisateur à commande magnétique RF PLASMA à cinq cibles

Modèle:VTC-5RF

Aperçu du produit:

Le VTC - 5rf est un pulvérisateur plasma RF magnétron à 5 cibles, conçu pour l'étude des films minces MGI (Material Genome Project) à haut débit. Particulièrement adapté pour l'exploration de matériaux électrolytiques solides, à travers 5 éléments combinés dans 16 rapports différents.

Caractéristiques principales:

• Plusieurs types de têtes de cible de pulvérisation et d'alimentation en option, combinaison libre, veuillez appeler le Département des ventes de notre société.
• Selon la source d'alimentation utilisée (DC ou RF), un matériau métallique ou non métallique peut être déposé.
• Un Commutateur rotatif peut activer la tête de pulvérisation à son tour, qui peut être commutée automatiquement dans un environnement de vide ou de plasma, sans affecter le degré de vide.
• Il est possible d'installer des cibles de cinq matériaux différents, chaque tête de cible peut définir individuellement des paramètres tels que la puissance du temps de pulvérisation pour la croissance de films de composition différente.
• Plusieurs Alimentations RF peuvent être achetées en option pour pulvériser plusieurs cibles en même temps.
• Logiciel de contrôle de l'équipement en option pour contrôler tous les paramètres de la pulvérisation avec l'ordinateur.

Cavité de pulvérisationPour:

• Cavité à vide en acier inoxydable 304
• Dimensions internes de la cavité: 470 mm l × 445 mm d × 522 mm H (105 l)
• Porte de chambre à charnière, diamètre Φ380mm, avec fenêtre en verre Φ150mm montée dessus

Tête de pulvérisation& 160;Table d'échantillonsPour:

• 5 têtes de Pulvérisation magnétron de 1 pouce avec mezzanine refroidie à l'eau
• Baffle électrique monté à l'intérieur de la cavité de pulvérisation
• Distance de pulvérisation: distance de pulvérisation réglable
• Angle de pulvérisation: angle de pulvérisation réglable
• Lors de l'expérience, il est nécessaire de coller la cible et le joint en cuivre de la cible avec une pâte d'argent conductrice, (la pâte d'argent conductrice peut être achetée dans cette société)
• Possibilité de commander séparément le câble de connexion RF comme pièce de rechange
• L'équipement nécessite une machine de refroidissement par eau pour le refroidissement de la tête de cible

Table d'échantillonsPour:

• Une table d'échantillonnage de 150 mm de diamètre, surmontée d'une table tournante avec des trous de 10 mm, chaque fois qu'un échantillon est exposé reçoit la pulvérisation sous forme de film.
• Taille de la table d'échantillon: Φ150mm, peut être tourné par le contrôle de programme, peut faire le film de 16 composants différents
• La table d'échantillon peut être chauffée,ZuiHaute température jusqu'à 600 ℃ (peut changer en fonction de la configuration, veuillez consulter le Département des ventes)

Système de videPour:

• Installé avec l'interface de vide kf40
• Degré de vide: 4.0e-5torr (pompe moléculaire) (valeur de référence, veuillez cliquer pour être précis)
• Diverses pompes à vide disponibles à l'achat dans cette société

Admission d'airPour:

• 1 / 4 "entrée d'air sur l'appareil pour une connexion facile à la bouteille de gaz
• Un bouton de réglage du flux d'air est installé sur le panneau avant de l'appareil, ce qui facilite le réglage du flux d'air

Les ciblesPour:

• Taille de cible requise: 25 mm de diamètre,ZuiGrande épaisseur 3mm
• Diverses cibles disponibles à l'achat dans cette société

CorinthePulvérisateur à commande magnétique RF PLASMA à cinq cibles

Modèle:VTC-5RF

Épaissimètre de film mince(facultatif):Disponible à l'achat dans cette société épaissimètre de film monté sur le pulvérisateur

Poids net:60kg (sans pompe)

Certification de qualité:Certifié ce

Conseils d'utilisation:

• Cet appareil est un appareil de bricolage, les paramètres changent beaucoup avant d'acheter, assurez - vous de communiquer soigneusement par téléphone
• Pour obtenir une meilleure qualité de film, il faut passer dans un gaz de haute pureté (recommandé > 5n)
• Assurez - vous de la propreté de la tête de pulvérisation, de la cible, du substrat et de la table d'échantillon avant de pulvériser le revêtement
• Pour obtenir une bonne liaison du film avec le substrat, nettoyez la surface du substrat avant la pulvérisation
• Nettoyage par ultrasons (paramètres détaillés cliquez sur l'image ci - dessous): (1) ultrasons à l'acétone (2) ultrasons à l'isopropanol - enlever la graisse (3) séchage à l'azote soufflé (4) le four à vide élimine l'humidité.
• Nettoyage au plasma (paramètres détaillés cliquez sur l'image ci - dessous): peut rugosité de surface, peut activer les liaisons chimiques de surface, peut éliminer les contaminants supplémentaires.
• Faire une couche tampon mince (environ 5 nanomètres): comme gr, ti, mo, ta, peut être appliqué pour améliorer l'adhérence des métaux et des alliages.

AvertissementPour:

• Remarque: le produit est équipé d'éléments haute tension à l'intérieur, interdit l'auto - assemblage privé, avec un corps mobile électrique.
• Une soupape de décompression (non fournie avec l'équipement standard) doit être installée sur la bouteille, garantissant une pression de sortie du gaz limitée à 0,02 MPACi - dessous, pour une utilisation sûre.
• La tête de pulvérisation est connectée à une haute tension. Pour des raisons de sécurité, l'opérateur doit charger l'échantillon et remplacer la cible avant de fermer l'appareil